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【JUKD-225】熟・癒され保育園 3 育晶论坛第26期:From diamond/SiC composites to porous diamond networks

发布日期:2024-08-29 02:06    点击次数:156

【JUKD-225】熟・癒され保育園 3 育晶论坛第26期:From diamond/SiC composites to porous diamond networks

[本站讯]为树牢师生革命意志,营造浓厚学术氛围,紧跟学术前沿,支配行业动态,集成攻关大平台与晶体材料国度重心实际室共同缔造“育晶论坛”系列活动。每期论坛邀请限制内隆起巨匠学者开展主题讲座【JUKD-225】熟・癒され保育園 3,宽饶列位敦朴、同学通过线上线下神态参会。

一、讲座题目

From diamond/SiC composites to porous diamond networks - film structures for attractive applications

二、主讲东谈主

姜辛 教化

三、主讲东谈主简介

1960年11月诞生,国际著明金刚石薄膜限制巨匠,国外高级次东谈主才引进计算巨匠、训导部“长江学者”讲座教化、国度级特聘巨匠、德国锡根大学名义技能与材料工程究诘所长处、C4级(德国最高级别)毕生讲座教化,山东省科学院海洋仪器边幅究诘所特聘巨匠。1991年博士毕业于德国亚琛工业大学,师从2007年诺贝尔物理学奖获取者德国着名科学家Peter Grünberg 教化,1998年获取德国国度博士并获教化经历。姜辛教化恒久悉力于于薄膜滋长狡计与应用究诘,获取多项革命性后果,在谈论限制处于国际最初地位。初度齐全了金刚石在硅名义的异质外延滋长,被公合计金刚石究诘限制的紧要冲破;诓骗高分辩电子显微技能初度揭示了金刚石与硅基体界面的原子结构,确立了原子扩散限制的金刚石硅名义形核模子,齐全了金刚石硅名义的定向形核;初度接收布里渊散射(Brillouin Scattering)与纳米压痕技能(Nano Indentation)对非晶薄膜材料的弹性力学性能进行了系统究诘,谈论论文成为该限制的始创性经典著述;率先使用氧化锌透明导电薄膜替代ITO用于有机发光器件电极;初度齐全搀和相纳米晶金刚石/β-碳化硅复合薄膜的制备,为膨胀金刚石薄膜的应用奠定了坚实基础;诓骗气相千里积及原位硼掺杂技能见效研制出洋际第一台金刚石电子硬度计。在Science、Nat. Mater.、Chem. Soc. Rev.、Adv. Mater.、Adv. Energy Mater.、Nat. Comm.等期刊上发表论文400余篇【JUKD-225】熟・癒され保育園 3,他引提高8000余次,特邀陈说100余次,撰写特邀综述性论文13篇,撰写论著5本,获取泰西专利12项。

四、主讲骨子

1、Different diamond and carbon-based composite films and structures have been successfully synthesized through CVD processes.

2、To date, good control of the crystallinity, orientation and phase distribution of diamond/silicon carbide composite films has become possible.

3、Graphene/3C-SiC and graphene/diamond hybrid nanolaminates have been synthesized. HRTEM analysis reveals that the the preferential nucleation of graphene at the planar defects of 3C-SiC, leading to the “splitting” of the 3C-SiC layer.

4、Diamond networks with both vertically and horizontally interconnected pores, have been fabricated using a simple template-free approach. The porosities are tunable in a large range. It shows great potential in sensing and energy-storage applications.

五、主理东谈主

西西裸体艺术

王希玮 副究诘员

六、讲座时刻

2024年8月26日(周一)下昼14:00

七、讲座地方

山东大学中心校区半导体研发大楼第一会议室

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